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VA: Vakuumphysik und Vakuumtechnik

VA 3: Vakuummesstechnik

Montag, 22. März 1999, 15:20–17:30, ZH

	15:20	VA 3.1	Hauptvortrag: Das Quadrupol-Massenspektrometer als Prozeßmonitor — •Christoph Lohe
	16:00	VA 3.2	Fachvortrag: Keramische Drucksensoren für die Regelung von Prozessdrücken im Bereich von Microbar — •U. Wälchli und Per Björkmann
	16:30	VA 3.3	Gasreibungsvakuummetermessungen im Temperaturbereich von -200∘C bis +100∘C — •Bernd E. Lindenau und Charles R. Tilford
	16:50	VA 3.4	Anwendung eines Gasreibungsvakuummeters zur Bestimmung von Volumenverhältnissen — •K. Jousten
	17:10	VA 3.5	Anwendung der Elektronendriftgeschwindigkeit zur Druckmessung — •Christian Edelmann, R. Kauert, and St. Wilfert