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VA: Vakuumphysik und Vakuumtechnik

VA 4: Vakuumverfahrenstechnik II

Dienstag, 23. März 1999, 10:00–15:40, ZH

	10:00	VA 4.1	Hauptvortrag: Fokussierte Ionenstrahlen in der Halbleitertechnologie — •Stefan Lipp
	10:40	VA 4.2	Fachvortrag: Maskenlose Implantation von Mikrostrukturen mit feinfokussierten Ionenstrahlen — •Jochen Teichert, Lothar Bischoff und Stephan Hausmann
	11:10	VA 4.3	Hauptvortrag: Eine Gasfeldionenquelle hoher Leuchtkraft — •S. Kalbitzer
	11:50	VA 4.4	Hauptvortrag: The physics and applications of the liquid metal ion source — •Richard G. Forbes
	12:30		150 min. break
	15:00	VA 4.5	Hauptvortrag: Oberflächenpräzisionsbearbeitung mit Ionenstrahlen — •Axel Schindler, Frieder Bigl, Thomas Hänsel, Andreas Nickel, Renate Fechner und H.-J. Thomas