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K: Kurzzeitphysik

K 4: Hochleistungs-/Impulssysteme (Schnellv. Plasmen, pulsf. Elemente u. Schalter)

K 4.1: Vortrag

Dienstag, 4. April 2000, 16:30–16:45, HS XIV

XUV-Plasmaquelle, erzeugt mit einem Pikosekunden-Pulszuglaser hoher mittlerer Leistung — •Ulrich Vogt¹, Ingo Will¹, Holger Stiel¹, Michael Beck¹, Thomas Wilhein² und Wolfgang Sandner¹ — ¹Max-Born-Institut, Max-Born-Str.2a, 12489 Berlin — ²RheinAhrCampus Remagen, Südallee 2, 53424 Remagen

Wir beschreiben einen hochstabilen Nd:YLF-Laser, der 0.8 ms lange Züge von Pikosekunden-Pulsen mit einer Folgefrequenz bis 10 Hz generiert. Die mittlere Laserleistung während des Impulszuges liegt bei 0.5kW. Der Laser wurde auf ein rotierendes Festkörpertarget fokussiert. Hierbei haben wir die Repetitionsrate der ps-Pulse in den Pulszügen zwischen 32 und 500 kHz variiert. Die vom laserinduzierten Plasma in einem Wellenlängenbereich von 2 bis 5 nm emittierte Strahlung wurde mit Hilfe eines XUV-Spektrographen, einer X-ray Streak-Kamera sowie zweier XUV-empfindlicher Photodioden untersucht. Wir präsentieren die gemessenen Spektren, absolute Photonenzahlen, Meßergebnisse zur Ausdehnung der Plasmaquelle, zur zeitlichen Impulsform sowie zur Stabilität der erzeugten XUV-Strahlung.