Bonn 2000 – wissenschaftliches Programm

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K: Kurzzeitphysik

K 4: Hochleistungs-/Impulssysteme (Schnellv. Plasmen, pulsf. Elemente u. Schalter)

K 4.2: Vortrag

Dienstag, 4. April 2000, 16:45–17:00, HS XIV

Winkelaufgelöste Untersuchungen der extrem ultraviolett Emission an einem 2J Pinchplasma — •Oliver Rosier¹, Klaus Bergmann², Willi Neff² und Rainer Lebert¹ — ¹Lehrstuhl für Lasertechnik — ²Fraunhofer Institut für Lasertechnik, Steinbachstr. 15, 52074 Aachen

Gasentladungsquellen, die im extrem ultravioletten Spektralbereich (EUV) emittieren, gelten neben laserproduzierten Plasmen als mögliche kompakte Strahlungsquellen für die Halbleiterlithographie der nächsten Generation. Die Konzeption einer Kondensoroptik zur Einkopplung der EUV-Strahlung erfordert die Kenntnis der Abstrahlcharakteristik. Neben diesem technologischen Aspekt geben winkelaufgelöste Messungen Auskunft über grundlegende Fragestellungen bezüglich der optischen Dichte oder der Plasmadynamik. Durchgeführt worden sind winkelaufgelöste Messungen im EUV-Bereich an einem Xenon Pinchplasma. Die spektrale Abstrahlcharakteristik sowie die daraus ableitbare Geometrie dieses Xenon Pinchplasmas, das im Bereich von 10−16nm ein quasikontinuierliches Spektrum aufweist, werden vorgestellt.