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Bonn 2000 – wissenschaftliches Programm

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MS: Massenspektrometrie

MS 5: MALDI, Fallen, SSMS

MS 5.6: Vortrag

Mittwoch, 5. April 2000, 10:15–10:30, HS VII

Ladungsträgerdichte in Silicium-dotiertem Galliumarsenid — •B. Wiedemann1, K. Bethge1, H.C. Freyhardt2, D. Jockel2, J.D. Meyer1 und H. Wagner21J.W. Goethe-Universität, Institut für Kernphysik, August-Euler-Str. 6, D-60486 Frankfurt — 2Zentrum für Funktionswerkstoffe GmbH, Windausweg 2, D-37073 Göttingen

Für den Aufbau von Hochleistungslaserdioden werden Si-dotierte GaAs-Einkristalle verwendet. Diese Kristalle werden nach dem vertikalen Gradient Freeze Verfahren gezüchtet, bei dem die GaAs-Schmelze in einem elektronisch bewegten Temperatur-Profil kristallisiert. Die mit flüssigem B2O3 benetzte BN-Tiegel-Wand legt die äussere Form, der Keim die kristallographische Orientierung des Einkristalls fest. Der Dampfdruck über einem Arsen-Reservoir kontrolliert die Stöchiometrie des wachsenden Kristalls. Temperatur-Gradienten an der Erstarrungsfront von 1Kcm−1 bis 5Kcm−1 reduzieren die Versetzungsdichte unter 100cm−2. Die Messungen der Si-Konzentration [Si] mittels SSMS sowie der Elektronen-Anzahldichte n und Elektronen-Beweglichkeit µn mittels Hall-Effekt bei 300K führen im Bereich 3×1017cm−3≤[Si]≤3×1018cm−3 auf eine lineare Abhängigkeit zwischen Si-Konzentration und Ladungsträgerdichte. Die gute Übereinstimmung zwischen Si-Konzentration und Elektronen-Anzahldichte legt nahe, dass die überwiegende Anzahl der Si-Atome als Donatoren wirksam ist. Für GaAs-Einkristalle mit Si-Konzentrationen von 3.8×1017cm−3≤[Si]≤ 2.2× 1018cm−3 werden Ladungsträgerdichten von 1.8× 1017cm−3≤ n ≤ 2.2× 1018cm−3 und Beweglichkeiten von 2.7×103cm2V−1s−1≥ µn≥1.8×103cm2V−1s−1 gemessen.

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