Bonn 2000 – wissenschaftliches Programm

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P: Plasmaphysik

P 11: Theorie/Dichte Plasmen V

P 11.5: Vortrag

Donnerstag, 6. April 2000, 15:15–15:30, HS III

Untersuchung der Vorschichtdynamik in der Plasma-Immersions-Ionenimplantation — •Boris Briehl und Herbert M. Urbassek — Fachbereich Physik, Universität Kaiserslautern, Erwin-Schrödinger-Straße, D-67663 Kaiserslautern

Die Reaktion der Vorschicht auf das plötzliche Anlegen einer negativen Hochspannung an eine Elektrode wurde unter Benutzung eines eindimensionalen Particle-In-Cell Computersimulations-Algorithmus untersucht. Der innere Teil der Vorschicht, der der Schicht am nächsten ist, weicht sofort mit der expandierenden Schicht von der Elektrode zurück. Die Reaktion des weiter von der Schicht entfernt liegenden Teils der Vorschicht setzt dagegen erst dann ein, wenn die Information über die Spannungsänderung, die sich mit der Ionenschallgeschwindigkeit ausbreitet, dort eingetroffen ist. Als Folge davon wird die Vorschicht zeitweise stark komprimiert. Sie relaxiert jedoch im Laufe der Zeit wieder auf beinahe ihre ursprünglich Ausdehnung. Die Rate dieser Relaxation wird ebenfalls von der Ionenschallgeschwindigkeit bestimmt.