Bonn 2000 – wissenschaftliches Programm

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P: Plasmaphysik

P 16: Plasmadiagnostik (Poster)

P 16.24: Poster

Mittwoch, 5. April 2000, 10:30–13:00, Aula

Messung absoluter Fluorkonzentrationen mittels Laserinduzierter Fluoreszenzspektroskopie — •A. Francis, U. Czarnetzki und H.F. Döbele — Universität GH Essen, Institut für Laser- und Plasmaphysik, Universitätsstr. 5, 45117 Essen

Reaktive Plasmaentladungen finden zunehmend technologische Anwendung z.B. bei plasmaunterstützten Ätz- und Beschichtungsverfahren. Hierbei sind die Kenntnisse über absolute Dichten der reaktiven Radikale wie z.B. atomares Fluor von großer Bedeutung. Die Bestimmung atomarer Fluorkonzentrationen ist durch die Methode der Zweiphotonen-angeregten Laserinduzierten Fluoreszenzspektroskopie möglich. Besondere Probleme ergeben sich dabei zum einen durch die anregende Laserwellenlänge im Vakuum-UV, zum anderen hinsichtlich der Absolutkalibrierung der Methode. Mit Hilfe von VUV-Strahlung, die durch stimulierte anti-Stokes Raman-Streuung an H₂ erzeugt wird, konnten erstmals auf diese Weise absolute Konzentrationen atomaren Fluors bestimmt werden. In einem Mikrowellen-Strömungssystem werden dazu Fluoratome erzeugt, wobei mit einem Titrationsverfahren die Absolutkalibrierung des Detektionssystems möglich ist. Die anregende Laserstrahlung liegt bei einer Wellenlänge von λ=170 nm. Weitere Anregungsschemata mit Laserwellenlängen im VUV-Bereich (2×λ=153 nm bzw. λ=163 nm zusammen mit λ=174 nm)werden im Hinblick auf die Anwendung des TALIF-Verfahrens an einer kapazitiv gekoppelten RF-Entladung untersucht. Über den derzeitigen experimentellen Stand wird berichtet.