Parts | Days | Selection | Search | Downloads | Help
P: Plasmaphysik
P 16: Plasmadiagnostik (Poster)
P 16.28: Poster
Wednesday, April 5, 2000, 10:30–13:00, Aula
Teilchendichten in CH4 -, N2 -, H2 - und O2 -Niederdruckplasmen — •S. Meir, U. Fantz und K. Behringer — Lehrstuhl für Experimentelle Plasmaphysik, Institut für Physik, Universität Augsburg, 86135 Augsburg
In dem Wellenlängenbereich von 120 − 900 nm wurden verschiedene mikrowellenangeregte Mischplasmen emissionsspektroskopisch untersucht. Unter Anwendung des Koronamodells und der Anregungsratenkoeffizienten wurden die verschiedenen Teilchendichten und Dissoziationsgrade bestimmt. Untersucht wurden CH4/He-, N2/H2/He- und O2/He-Mischplasmen in einem Druckbereich von 2 − 20 Pa (Te=1−5 eV). Es wurden ein VUV/UV-Spektrometer (120 − 300 nm) und ein Spektrometer für den sichtbaren Wellenlängenbereich (200 − 900 nm) verwendet, die gegenüberliegend angeordnet sind und damit den gleichen Sichtstrahl betrachten. Beide Spektrometer sind absolutkalibriert, wobei die Relativkalibrierung des VUV/UV-Spektrometers über die Verzweigungsverhältnisse der Lyman-Birge-Hopfield-Bande des N2-Moleküls erfolgte. Hiermit konnten Atomlinien und Molekülbanden in beiden Wellenlängenbereichen spektroskopiert und verglichen werden. Zur Ermittelung der nicht spektroskopisch bestimmbaren Dichten (z.B. entstehende C2HX-Moleküle) und der Ausgangsdichten stand ein Massenspektrometer zur Verfügung. Es zeigte sich, daß die dissoziative Anregung aus den Molekülen eine nicht vernachlässigbare Rolle spielt.