Bonn 2000 – wissenschaftliches Programm

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P: Plasmaphysik

P 17: Staubige Plasmen (Poster)

P 17.4: Poster

Mittwoch, 5. April 2000, 10:30–13:00, Aula

In situ Messung der elektrischen Leitfähigkeit plasmaerzeugter dünner Schichten — •Siegmar Rudakowski, Dirk Meyer und Klaus Wiesemann — Experimentalphysik insb. Gaselektronik, Ruhr Universität Bochum, D-44780 Bochum

Für viele Anwendungen dünner Schichten spielt deren elektrische Leitfähigkeit, neben anderen Eigenschaften, eine entscheidende Rolle. Im Falle von plasmagenerierten Schichten ist dabei der Zusammenhang zwischen den Schichteigenschaften und den Plasmaparametern von besonderem Interesse. Dazu sind in situ Messungen von Vorteil, die es erlauben gleichzeitig die Plasmaparameter und die elektrischen Eigenschaften einer Schicht während des Aufwachsens zu kontrollieren. Es werden Messungen an einer gepulsten 13.56 MHz Entladung in Argon und Acetylen vorgestellt, in der eine amorphe Kohlenwasserstoffschicht erzeugt wird. Mit einem neuen optischen Messverfahren und einer modifizierten Langmuirsonde sind wir in der Lage, gleichzeitig den komplexen Brechungsindex sowie die Leitfähigkeit senkrecht zu Oberfläche des Substrates zu messen. Die daraus gewonnenen Daten über den Abscheidemechanismus sollen dazu dienen, die Eigenschaften der aufwachsenden Schichten gezielt zu verändern.