Bonn 2000 –
wissenschaftliches Programm
P 18: Plasmatechnologie (Poster)
Mittwoch, 5. April 2000, 10:30–13:00, Aula
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10:30 |
P 18.1 |
A New Chemistry for Plasma Etching of Antireflective Coatings — •Harald Richter, Ilona Juergensen, Andre Wolff, Maik Stegemann, and Stephan Wege
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P 18.2 |
Zeit- und ortsaufgelöste LIF- Spektroskopie von atomarem Stickstoff in einer Dielektrisch Behinderten Entladung (DBE) mit steilen Spannungsflanken — •V. Schulz-von der Gathen, Ch. Lukas, M. Spaan und H.F. Döbele
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P 18.3 |
Pellet acceleration scheme for centrifuge injectors supplied by continuously working extruders — •P.T. Lang, M.J. Watson, P. Twynam, A. Walden, S. Wijetunge, B. Willis, N. Hosogane, H. Hiratsuka, and K. Kizu
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P 18.4 |
Ein Hochgeschwindigkeits-Pelletinjektionssystem zur Nachfüllung heißer Fusionsplasmen von der magnetischen Hochfeldseite — •A. Lorenz, W. Beck, P. Cierpka und C. Dorn
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P 18.5 |
Optimising plasma injection in field coils — •Lea Brahms, Reginald Barclay, Zefram Cochrane, Geordi LaForge, and Miles O Brian
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P 18.6 |
Spektroskopische Bestimmung der CF2 - und CF3 - Konzentration in Fluorcarbon-Plasmen einer dielektrischen Barriere - Entladung — •A. Dinckelmann, H. Schmidt, I. Vinogradov und A. Lunk
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P 18.7 |
Ein Hochgeschwindigkeits-Pelletinjektionssystem zur Nachfüllung heißer Fusionsplasmen von der magnetischen Hochfeldseite — •A. Lorenz, W. Beck, P. Cierpka und C. Dorn
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