Bonn 2000 – scientific programme

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P: Plasmaphysik

P 21: Dichte Plasmen (Poster)

P 21.13: Poster

Thursday, April 6, 2000, 17:00–19:30, Aula

Kapillarentladungen in Sauerstoff — •R. BISCHOFF und H. LANGHOFF — Physikalisches Institut der Universität Würzburg

Kapillarentladungen sind sowohl als Quelle von intensiver EUV-Strahlung als auch für die Anregung von EUV-Lasern von Interesse. Es wird berichtet über Untersuchungen von Entladungen durch Sauerstoff mit Strominpulsen von maximal 100kA. Die Plasmaeigenschaften werden durch Beobachtung der 52.0 nm Strahlung des lithiumähnlichen OVI als Funktion verschiedener experimenteller Parameter ( Röhrchenradius, -länge, Gasdruck, Stromstärke, und -frequenz ) untersucht. Die Ergebnisse werden mit Modellrechnungen verglichen.