Bonn 2000 – wissenschaftliches Programm

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P: Plasmaphysik

P 6: Theorie/Dichte Plasmen III

P 6.8: Vortrag

Dienstag, 4. April 2000, 18:30–18:45, HS III

Parameterbetrachtungen für einen Pseudo-Planck-Strahler bei 11.5 nm und 13.5 nm — •L. Juschkin, S. Ellwi und H.-J. Kunze — Institut für Experimentalphysik V, Ruhr-Universität Bochum

Für verschiedene Anwendungen, speziell in der Lithographie, werden intensive VUV-Strahlungsquellen benötigt. Wegen der vorhandenen Optiken (Mo:Be und Mo:Si Multilayerspiegel) ist der Wellenlängenbereich bei 11.5 nm und 13.5 nm von besonderem Interesse. Die mögliche Emission aus einem dichten Plasma einer Kapillarentladung wird in Hinsicht auf die Optimierung erreichbarer Strahldichte bei diesen Wellenlängen analysiert.

Bei bestimmten Bedingungen, wenn die Linien optisch dick sind und die Besetzungsdichten des oberen und unteren Zustands Boltzmann verteilt sind, entspricht ihre Emission in einem engen Spektralbereich einer Planck-Funktion. Eine Boltzmann-Verteilung der Besetzungsdichte kann in zwei Fällen erreicht werden: wenn die Zustände durch Stöße gekoppelt sind oder wenn die Linie über die kleinste Plasmadimension optisch dick ist. Die dazu notwendigen Plasmaparameter werden abgeschätzt. Die potentiellen Übergänge verschiedener Ionen werden analysiert.

Ein sehr attraktiver Kandidat ist das Resonanzdoublette von KrIX bei 11.54 nm. Die entsprechenden Untersuchungen an der Bochumer Kapillarentladung werden präsentiert.