Bonn 2000 – wissenschaftliches Programm

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P: Plasmaphysik

P 7: Plasmatechnologie

P 7.5: Vortrag

Dienstag, 4. April 2000, 18:00–18:15, HS V

Low energy electron beam pumped gas laser — •Andreas Ulrich¹, Jochen Wieser¹, Claudia Niesl¹, Daniel Murnick² und Manfred Salvermoser² — ¹Fakultät für Physik E12, Technische Universität München, James Franck Str. 1, D-85747 Garching — ²Department of Physics, Rutgers University, Newark, NJ, USA

Bei der Anregung von dichten Gasen mit niederenergetischen (10-20keV) Elektronenstrahlen können mit kleinen Strahlströmen hohe Leistungsdichten erzeugt werden. Es wird eine Technik vorgestellt mit der es möglich ist, Gase bis zu Drucken von ca. 4bar mit niederenergetischen Elektronenstrahlen anzuregen. Dies wird durch Keramikeintrittsfolien von nur 300nm Dicke ermöglicht, in denen 15keV Elektronen nur etwa 10% ihrer Energie verlieren bevor sie zur Anregung des Targetgases genutzt werden können. Als eine Anwendung wird ein neuartiger Typus transversal gepumpter Gaslaser vorgestellt. Die Besonderheit liegt darin, dass die Reichweite der Elektronen in Gasen bei Atmosphärendruck nur ca. 1mm beträgt. Dadurch entsteht im Lasermedium längs der (0.7 x 40mm²) Eintrittsfolie ein praktisch zylindrisches angeregtes Volumen von ca. 1mm Durchmesser. Damit können transversal elektronenstrahlgepumpte Laser mit stabilen optischen Resonatoren realisiert werden. Die Anordnung wurde am 1.73µm ArXe Laser demonstriert. Die Laserschwelle wurde mit einem 12keV Elektronenstrahl bereits bei 0.5mA Strahlstrom erreicht. Die Skalierung der Pumpmethode zum Betrieb von UV Excimerlasern wird diskutiert.

Gefördert von: NATO CRG No. 921215 und INTAS 96-0351.