P 7: Plasmatechnologie
Dienstag, 4. April 2000, 16:30–18:15, HS V
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16:30 |
P 7.1 |
Fachvortrag:
Zur Kinetik der Elektronen im Kathodengebiet von DC Entladungen in H2/Ar/N2 — •D. Loffhagen, M. Hannemann, M. Schmidt und R. Winkler
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17:00 |
P 7.2 |
Fachvortrag:
Thermische Kathoden für Hochdruck-Plasmalampen: Experimentelle Untersuchungen und ihr Vergleich mit Modellierungen — •J. Luhmann, D. Nandelstädt, H. Schmitz, K.-U. Riemann und J. Mentel
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17:30 |
P 7.3 |
Untersuchungen zur Reaktionskinetik von Fluor-Kohlenstoff-Verbindungen in der dielektrisch behinderten Entladung — •I. Vinogradov, A. Dinckelmann, H. Schmidt und A. Lunk
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17:45 |
P 7.4 |
Der Pulsreaktor zur Radikalenerzeugung in Barrierenentladungen bei schnellen Spannungsanstiegen — •F.-J. Trompeter, W. Neff, K. Pochner, S. Seiwert, G. Lepperhoff und D. Scharr
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18:00 |
P 7.5 |
Low energy electron beam pumped gas laser — •Andreas Ulrich, Jochen Wieser, Claudia Niesl, Daniel Murnick und Manfred Salvermoser
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