Bonn 2000 – scientific programme

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Q: Quantenoptik

Q 28: Poster: Atomoptik

Q 28.7: Poster

Wednesday, April 5, 2000, 10:30–13:30, Aula

Strukturiertes Dotieren mit Lichtkräften — •D. Jürgens, Th. Schulze, T. Müther, B. Brezger, M. Oberthaler und J. Mlynek — Fachbereich Physik, Universität Konstanz, 78457 Konstanz

Unter Atomlithographie versteht man die Herstellung von Nanostrukturen durch die Fokussierung eines präparierten Atomstrahls in einer Lichtmaske. In bisherigen Experimenten wurde die Frequenz- [1] und Polarisationsabhängigkeit [2] von Lichtkräften ausgenutzt, um ein- und zweidimensionale Chromstrukturen mit Perioden unterhalb der λ/2-Grenze zu realisieren.

Eine bis jetzt noch ungenutzte Eigenschaft von Lichtmasken ist ihre Materialselektivität. In der von uns verwendeten Lichtmaske wird nur das Element Chrom fokussiert. Jedes andere Material durchläuft die Lichtmaske ohne signifikante Wechselwirkung und wird während seines Wachstums strukturiert mit Chrom dotiert. Um die Modulation der optischen Eigenschaften von Magnesiumflourid durch das Einbringen von Chrom zu untersuchen, wurde der Chromstrahl mittels einer transversalen Laserkühlung makroskopisch strukturiert. Über den aktuellen Stand der mikroskopischen Strukturierung des Chroms mittels einer Lichtmaske wird berichtet.

[1] Th. Schulze et al., Microelectron. Eng. 46, 105 (1999).

[2] B. Brezger et al., Europhys. Lett. 46, 148 (1999).