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Q: Quantenoptik

Q 4: Atomoptik I

Q 4.8: Fachvortrag

Montag, 3. April 2000, 18:30–19:00, HS X

Schreiben eines Übergitters mit Lichtkräften — •Th. Schulze, B. Brezger, R. Mertens, M. Pivk, T. Pfau und J. Mlynek — Fachbereich Physik, Universität Konstanz, 78457 Konstanz

Unter Atomlithographie versteht man die Herstellung von Nanostrukturen durch die Fokussierung eines präparierten Atomstrahls in einer Lichtmaske. Ein- und zweidimensionale Chromstrukturen unterhalb der λ/2-Grenze konnten durch Umschaltung der Laserverstimmung während der Deposition [1] oder die Verwendung von Lichtmasken mit Polarisationsgradienten [2] realisiert werden.

In diesem Vortrag werden neue experimentelle Ergebnisse basierend auf einer Lichtmaske mit quadratischer Symmetrie vorgestellt. Es wurden quadratische Gitter mit Perioden von λ/2 = 213 nm und λ/√2 = 300 nm realisiert. Durch ein Brechen der quadratischen Symmetrie wurde eine ortsabhängige Phasenverschiebung zwischen den Laserstrahlen erzeugt. Dies resultiert in einem periodischen Wechsel von Gitterperiode und Orientierung der optischen Potentiale in der Lichtmaske. Im Experiment wurde ein Übergitter mit einer Periode von 200 µm hergestellt.

[1] Th. Schulze et al., Microelectron. Eng. 46, 105 (1999).

[2] B. Brezger et al., Europhys. Lett. 46, 148 (1999).