Regensburg 2000 – wissenschaftliches Programm
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AM: Magnetismus
AM 11: Dünne Schichten II: Austauschkopplung
AM 11.9: Vortrag
Dienstag, 28. März 2000, 16:15–16:30, H10
Einfluss des Ionenbeschusses auf den Exchange-Bias-Effekt — •T. Mewes, A. Mougin, J. Fassbender, R. Lopusnik, M. Jung, D. Engel, A. Ehresmann, H. Schmoranzer und B. Hillebrands — Fachbereich Physik, Universität Kaiserslautern, Erwin-Schrödinger-Str. 56, 67663 Kaiserslautern
Wird ein Exchange-Bias-Schichtsystem, bestehend aus einem Ferromagneten (F)
und einem Antiferromagneten (AF) nach der Präparation über die
Néel-Temperatur des AF aufgeheizt und anschliessend im angelegten
Magnetfeld wieder unter die Néel-Temperatur gekühlt, so findet man
eine bzgl. der Nullfeld-Lage verschobene Hysteresekurve. In vielen
Exchange-Bias-Systemen geht damit eine Erhöhung des Koerzitivfeldes
einher.
Als Ursache dieses Effektes gilt die Austauschkopplung an
der Grenzfläche zwischen dem AF und F. Aufgrund des
Grenzflächencharakters des Exchange-Bias-Effektes ist bei einer
strukturellen bzw. elektronischen Modifikation der Grenzfläche
auch eine Veränderung des Exchange-Bias-Effektes zu erwarten.
Zur Untersuchung dieses Effektes wurden polykristalline FeNi/FeMn-Proben
mittels Molekularstrahl-Epitaxie hergestellt und mit He+-Ionen
beschossen. Es wird gezeigt, daß als Funktion der Ionendosis und -energie
eine Verringerung des Exchange-Bias-Effektes bis hin zur vollständigen
Unterdrückung erreicht werden kann.
Die Ursache dieses Effekts kann mit Hilfe der von den Ionen hervorgerufenen
Elektronenanregungen und Schädigungen der Grenzfläche erklärt werden.