Regensburg 2000 – scientific programme
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AM: Magnetismus
AM 18: Magnetowiderstand II: Oxide und Tunnelmagnetowiderstand
AM 18.4: Talk
Thursday, March 30, 2000, 10:15–10:30, H10
Tunnelmagnetowiderstand in granularen Filmen bestehend aus wohldefinierten Co-Clustern in einer Edelgasmatrix — •M. Holdenried und H. Micklitz — II. Physikalisches Institut, Universität zu Köln, Zülpicher Str. 77, 50937 Köln
In einem granularen System aus wohldefinierten Co-Clustern in einer Edelgasmatrix wurde der Tunnelmagnetowiderstand (TMR) untersucht. Die Cluster wurden mittels Gasaggregation hergestellt. Somit liegen nun zum ersten mal TMR-Messungen in einem granularen System vor, bei dem (i) keinerlei Wechselwirkungen zwischen Matrix und Clustern auftreten, (ii) die Matrix keine paramagnetischen Verunreinigungen enthält und (iii) die Cluster eine wohldefinierte Größe unabhängig von ihrer Konzentration haben. Es wurden in Kr- und Xe-Matrizen Filme hergestellt, deren spezifischer Widerstand um fünf Größenordnungen variiert (mittlerer Clusterdurchmesser 5 nm). Alle Filme zeigen das von der Theorie erwartete exp(C/T−1/2)-Gesetz. Trotz der Unterschiede in Barrierenhöhe und -dicke zeigen die Proben keine Unterschiede in ihrem TMR(T)-Verhalten. Dies steht in Widerspruch zu Ergebnissen, die an mittels reaktiven Sputterns hergestellten Co/Al2O3-Filmen erzielt wurden [1]. Es stellt sich die Frage, ob die Unterschiede allein auf unsere Edelgasmatrix oder auf die Vorzüge unserer Herstellungsmethode zurückzuführen sind. Zur Klärung dieser Frage und der noch nicht verstandenen Temperaturabhängigkeit des TMR planen wir eigene Messungen an Filmen mit einer Al2O3-Matrix. Gefördert durch die DFG (SFB 341).
[1] J. Mitani, S. Takahashi, K. Takanashi, K. Yakushiji, S. Maekawa and H. Fujimori, Phys. Rev. Lett. 81, 2799 (1998)