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DS: Dünne Schichten

DS 10: In-situ-Charakterisierung II

DS 10.3: Fachvortrag

Montag, 27. März 2000, 11:30–11:45, H32

Endpunkts-Detektion mittels Quadrupol-Massenspektrometern — •Guenter Peter, Norbert Mueller und Hans Zogg — Balzers Instruments, P.O. Box 1000, FL-9496 Balzers

Immer duennere Schichten gelangen in der Elektronik-Industrie zum Einsatz, so dass fuer die meisten Prozesse eine Endpunkts-Detektion zwingend ist. Einer der Prozesschritte ist Ion Milling: Durch Beschuss mit Ionen oder Neutralteilchen in der Gasphase wird ein Schichtsystem selektiv zurueckgeaetzt. Die geaetzten Spezies treten hier und bei verwandten Prozessen unter anderem als Sekundaer-Ionen auf. Der Nachweis dieser Sekundaer- Ionen mittels Massenspektrometer bietet sich geradezu an. Als Detektor wurde ein differentiell gepumptes Massenspektrometer zusammen mit einer Ionen-Transfer-Optik verwendet. Applikationen an einem Ion Milling Prozess zeigen die deutliche Ueberlegenheit dieser Geraete gegenueber den bisher verwendeten optischen Endpunkts- Detektoren: Um mehr als zwei Groessen-ordnungen hoehere Signallevel und ein deutlich reduziertes Rauschen im Vergleich zur optischen Detektion wurden erzielt. Zusaetzliche Ionen-Umlenk-Einheiten ermoeglichen Detektionswinkel bis hin zu 90 Grad. Die notwendige Druckreduktion laesst sich durch die Groesse der Eintrittsblende dem Prozess anpassen.