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DS: Dünne Schichten

DS 10: In-situ-Charakterisierung II

DS 10.4: Fachvortrag

Montag, 27. März 2000, 11:45–12:00, H32

In-situ-Partialdruckanalyse bei modernen Halbleiterprozessen — •Christoph Lohe — MKS Instruments, Schatzbogen 43, 81829 München

Quadrupol-Massenspektrometer werden zunehmend zur Gasanalyse bei industriellen Produktionsprozessen eingesetzt. Insbesondere bei modernen Halbleiterprozessen dienen sie zum einen der Anlagenqualifizierung durch Restgasanalyse und Lecksuche, zum anderen der Prozessgasanalyse waehrend der eigentlichen Prozessierung. Das Massenspektrometer wird so zum Prozessmonitor fuer kritische Vakuumprozesse. Die vom Prozessmonitor gelieferten Daten ermoeglichen, Anlagenprobleme zu erkennen, Prozessablaeufe zu optimieren und Kontaminationen zu ueberwachen. Moderne Prozessmonitorsysteme fuer die Halbleiterindustrie arbeiten weitestgehend automatisiert und koennen helfen, die Produktionsausbeute und Standzeit der Anlage zu erhoehen.