Regensburg 2000 – wissenschaftliches Programm

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DS: Dünne Schichten

DS 10: In-situ-Charakterisierung II

DS 10.5: Fachvortrag

Montag, 27. März 2000, 12:00–12:15, H32

UV/Vis-Emissions- und Massenspektrometrie waehrend der Plasmapolymerisation und Schichteigenschaften — •Dieter F. Ihrig, Frank Scheide, Oliver Winkelhake und Oliver Streuber — Maerkische Fachhochschule Iserlohn Labor fuer Umwelttechnik

Mit dem Ziel, Loesungsmittel aus dem Lackierbetrieb moeglichst ganz zu verbannen, werden im Labor fuer Umwelttechnik der MFH Plasma-Reinigungs- und -polymersationsprozesse entwickelt. Durch Reihenversuche konnte gezeigt werden, dass nur durch Zumischgase gute Schichthaftung, guter Erstkorrosionsschutz und gute Primaereigenschaften zu erzielen sind. In den Schichten findet man IR-spektroskopisch Carboxylgruppen. Aus den Schichteigenschaften, den Emissionsspektren und den Massenspektren werden die Reaktionen, die den Schichtbildungsprozess vermutlich tragen, entwickelt und gezeigt, unter welchen Bedingungen der Schichtbildungsprozess forciert wird. Insbesondere laesst sich aus diesem Modell der chemischen Ablaeufe erklaeren, warum oxidative Beimengungen zum Monomergas notwendig sind, um gut haftende und homogene Beschichtungen zu erzeugen. Die wahrscheinlich im Abgas auftretenden Schadstoffe werden betrachtet.