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DS: Dünne Schichten
DS 10: In-situ-Charakterisierung II
Montag, 27. März 2000, 11:00–12:15, H32
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11:00 | DS 10.1 | Fachvortrag: Ein Ellipsometer mit neuem optischen Design für die Prozeßkontrolle an inline Beschichtungsanlagen — •Georg Dittmar, Uwe Richter und Uwe Wielsch |
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11:15 | DS 10.2 | Fachvortrag: Quadrupol-Massenspektrometer in der Beschichtungstechnologie — •Guenter Peter und Norbert Mueller |
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11:30 | DS 10.3 | Fachvortrag: Endpunkts-Detektion mittels Quadrupol-Massenspektrometern — •Guenter Peter, Norbert Mueller und Hans Zogg |
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11:45 | DS 10.4 | Fachvortrag: In-situ-Partialdruckanalyse bei modernen Halbleiterprozessen — •Christoph Lohe |
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12:00 | DS 10.5 | Fachvortrag: UV/Vis-Emissions- und Massenspektrometrie waehrend der Plasmapolymerisation und Schichteigenschaften — •Dieter F. Ihrig, Frank Scheide, Oliver Winkelhake und Oliver Streuber |