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DS: Dünne Schichten

DS 10: In-situ-Charakterisierung II

Montag, 27. März 2000, 11:00–12:15, H32

	11:00	DS 10.1	Fachvortrag: Ein Ellipsometer mit neuem optischen Design für die Prozeßkontrolle an inline Beschichtungsanlagen — •Georg Dittmar, Uwe Richter und Uwe Wielsch
	11:15	DS 10.2	Fachvortrag: Quadrupol-Massenspektrometer in der Beschichtungstechnologie — •Guenter Peter und Norbert Mueller
	11:30	DS 10.3	Fachvortrag: Endpunkts-Detektion mittels Quadrupol-Massenspektrometern — •Guenter Peter, Norbert Mueller und Hans Zogg
	11:45	DS 10.4	Fachvortrag: In-situ-Partialdruckanalyse bei modernen Halbleiterprozessen — •Christoph Lohe
	12:00	DS 10.5	Fachvortrag: UV/Vis-Emissions- und Massenspektrometrie waehrend der Plasmapolymerisation und Schichteigenschaften — •Dieter F. Ihrig, Frank Scheide, Oliver Winkelhake und Oliver Streuber