DS 11: In-situ-Charakterisierung III
Dienstag, 28. März 2000, 09:30–10:45, H31
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09:30 |
DS 11.1 |
Fachvortrag:
Ein Wachstumsmodell für TiO(2)-Schichten — •Dieter Mergel, D. Buschendorf und M. Schenkel
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09:45 |
DS 11.2 |
Fachvortrag:
Ein Wachstumsmodell für ITO-Schichten — •Dieter Mergel, G. Ehl und D. Barthel
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10:00 |
DS 11.3 |
Fachvortrag:
In-situ- und Echtzeit-Beobachtung des Wachstums kristalliner organischer Schichten mit Synchrotronstreutechniken — •Frank Schreiber, Ken Ritley, Baerbel Krause, Arndt Duerr, Detlef Smilgies und Helmut Dosch
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10:15 |
DS 11.4 |
Fachvortrag:
Chrom auf TiO2(110) – Benetzung und Strukturbildung — •C. Winde, T. Wagner, D.A. Bonnell und M. Rühle
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10:30 |
DS 11.5 |
Fachvortrag:
ELS/SPA-RHEED: In-situ-Charakterisierung der Oberflächenmorphologie und der elektronischen Eigenschaften von SiGe-Nanostrukturen — •Olaf Kirfel, Detlev Grützmacher, Bert Müller, Matthias Escher und Michael Merkel
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