Regensburg 2000 – wissenschaftliches Programm

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DS: Dünne Schichten

DS 14: Schichtcharakterisierung I

DS 14.3: Fachvortrag

Dienstag, 28. März 2000, 16:45–17:00, H31

Hochauflösende transmissionselektronenmikroskopische Untersuchung der Mikrostrukturen von IBAD-hergestellten biaxial texturierten YSZ- und laserdeponierten YBCO-Schichten — •L.O. Kautschor, J. Dzick, C. Jooss, J. Hoffmann und H.C. Freyhardt — Universität Göttingen, Institut für Materialphysik, Windausweg 2, 37073 Göttingen

Hochtexturierte HTSL-Schichten sind für viele technische Anwendungen (z.B. Strom-, HF-Kabel, resistive Strombegrenzer) von großer Bedeutung. Um diese Schichten auf nicht epitaxiefähigen Materialien zu deponieren, benötigt man eine texturierte Zwischenschicht, die als Unterlage für ein epitaktisches Wachstum von YBCO dient. YSZ (Yttrium stabilisiertes Zirkonoxid), das mittels ionenstrahlunterstützter Deposition (IBAD) auf metallischen oder keramischen Substraten biaxial texturiert abgeschieden wird, hat sich dabei als gutes Material erwiesen, da es zusätzlich als Diffusionsbarriere zwischen Substrat und der YBCO-Schicht dient. Um Aussagen über den Wachtumsmechanismus des YSZ-IBAD-Films (auf Si, Dicke: 1µ m ) zu machen, wurden Strukturanalysen mittels HRTEM gemacht. Dabei läßt sich die Ausbildung der (100)-Textur in mehrere Phasen unterteilen. Ferner wurde die Mikrostruktur eines mittels Laserablation auf YSZ aufgebrachten YBCO-Films untersucht. Schwerpunkt dieser Untersuchung war das Interface YSZ-YBCO.