Regensburg 2000 – scientific programme

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DS: Dünne Schichten

DS 15: Plasma- und Ionentechniken I

DS 15.1: Invited Talk

Tuesday, March 28, 2000, 09:30–10:15, H32

Teilchen- und Energieflüsse bei der Sputter-Deposition: Effekte zur Textur und Nanoporosität dünner Schichten — •T. Drüsedau, T.-M. John, F. Klabunde, M. Löhmann, H.-M. Latuske und J. Bläsing — Institut für Experimentelle Physik, Otto-von-Guericke-Universität PF 4120, 39016 Magdeburg

Mittels kalorimetrischen Sonden wurde der Energieeintrag in wachsende Schichten gemessen. Die Werte liegen zwischen 18 eV (Al, DC) und 1,1 keV (AlN, RF) pro Atom. Mit steigendem Druck und sinkender Leistung nehmen die Energien durch den Beitrag von Elektronen zu. Für Drücke kleiner 0,5 Pa wird der Energieeintrag durch die kinetische Energie gesputterter und reflektierter Spezies, Kondensationswärme und Plasmastrahlung beschrieben. Zur quantitativen Bestimmung der Energien wurde der Sputterprozeß mittels TRIM.SP MC Simulationen modelliert. Die Abweichung der a priori berechneten von den Meßwerten ist kleiner 20%. Für schwere Elemente dominiert der Energieeintrag durch reflektierte Neutrale, die einen starken Einfluß  auf die Textur metallischer Schichten ausüben. Die Thermalisation gesputterter Atome führt zur Deposition von porösen Schichten mit Dichten kleiner 50%.