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DS: Dünne Schichten

DS 19: Plasma- und Ionentechniken V

Dienstag, 28. März 2000, 15:45–16:15, H32

	15:45	DS 19.1	Fachvortrag: Spannungsmessungen an dünnen Aluminiumoxidschichten mit Hilfe der optischen Fluoreszenzspektroskopie am Beispiel von Al2O3 auf NiAl — •Diana Zimmermann, C. Mennicke und M. Rühle
	16:00	DS 19.2	Fachvortrag: Charakterisierung der ECR-PECVD-Abscheidung von SiCN:H-Schichten — •Ines Dani, Siegfried Peter und Frank Richter