DS 20: Plasma- und Ionentechniken VI
Dienstag, 28. März 2000, 16:30–17:30, H32
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16:30 |
DS 20.1 |
Fachvortrag:
Einfluß der Ionenenergie auf das epitaktische Schichtwachstum bei der ionengestützten Deposition dünner Galliumnitrid-Schichten — •J.W. Gerlach, R. Schwertberger, S. Sienz und B. Rauschenbach
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16:45 |
DS 20.2 |
Fachvortrag:
Plasmaimmersionionenimplantation in 3-dimensionalen Strukturen — •Peter Huber, Georg Keller, Stephan Mändl und Bernd Rauschenbach
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17:00 |
DS 20.3 |
Fachvortrag:
Passivierung von Siliziumsolarzellen durch großflächige Siliziumnitridbeschichtungen aus einem Niederdruck-Mikrowellenplasma. — •Andreas Schulz, Klaus-Martin Baumgärtner, Jochen Feichtinger, Rainer Galm und Matthias Walker
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17:15 |
DS 20.4 |
Fachvortrag:
Entfettung von Metallteilen und Schichtauftrag zum Erstkorrosionsschutz im Plasma — •Dieter F. Ihrig, Michael Straeter, Frank Scheide, Oliver Winkelhake und Oliver Streuber
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