Regensburg 2000 – wissenschaftliches Programm

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DS: Dünne Schichten

DS 20: Plasma- und Ionentechniken VI

DS 20.2: Fachvortrag

Dienstag, 28. März 2000, 16:45–17:00, H32

Plasmaimmersionionenimplantation in 3-dimensionalen Strukturen — •Peter Huber, Georg Keller, Stephan Mändl und Bernd Rauschenbach — Lehrstuhl für Experimentalphysik 4, Universität Augsburg

Die Plasma-Immersion-Ion-Implantation ist ein neueres Verfahren für die Implantation großer Oberflächen in kurzer Zeit, da die gesamte Oberfläche simultan implantiert wird. Jedoch muß die Homogenität der Implantation für jede Probengeometrie neu überprüft werden. In dieser Studie wurde die Homogenität des PIII-Prozesses an Hand eines Probekörpers (Grabenstruktur) untersucht, in den Argon- oder Sauerstoffionen implantiert wurden. Zur experimentellen Untersuchung stand als Analyseverfahren Ionenstrahlanalytik — RBS und ERDA — zur Verfügung. Die Ergebnisse wurden mit simulierten Implantationsprofilen verglichen, die mit einem Particle-in-cell Ansatz berechnet wurden. In guter Übereinstimmung zwischen Simulation und Experiment zeigen sich große Dosisvariationen. Die Grabenoberseite wird fast gleichmässig implantiert, während in die Seitenwand und den Grabenboden nur 10% dieser Dosis und weniger implantiert wird.