Regensburg 2000 – wissenschaftliches Programm

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DS: Dünne Schichten

DS 20: Plasma- und Ionentechniken VI

DS 20.3: Fachvortrag

Dienstag, 28. März 2000, 17:00–17:15, H32

Passivierung von Siliziumsolarzellen durch großflächige Siliziumnitridbeschichtungen aus einem Niederdruck-Mikrowellenplasma. — •Andreas Schulz, Klaus-Martin Baumgärtner, Jochen Feichtinger, Rainer Galm und Matthias Walker — Inst. f. Plasmaforschung, Uni Stuttgart, Pfaffenwaldring 31, Stuttgart

Um die Effektivität von Siliziumsolarzellen zu verbessern, werden die Oberflächendefekte, die den Großteil der Rekombination von Elektron-Lochpaaren verursachen, durch eine dünne Siliziumnitridschicht passiviert. Da das Siliziumnitrid eine große Härte und chemische Beständigkeit aufweist und außerdem bei der Abscheidung mit einem Brechungsindexgradienten versehen werden kann, eignet sich dieses zusätzlich als Schutz- und Antireflexbeschichtung.
Für die Abscheidung von Siliziumnitrid wird eine Niederdruck-Plasmaquelle, das Plasmodul, gewählt. Das Plasmodul, ein Plasmareaktor in modularem Aufbau, besitzt als Quellenmodul ein Array aus vier Duoplasmalines.
Im Vortrag wird das Plasmodul und seine Eigenschaften vorgestellt. Die Siliziumnitridschichten werden anhand von FTIR-Absorptionsspektren, XPS und Brechungsindexmessungen charakterisiert. Die Passivierungseigenschaften werden durch MPCD bestimmt.