Regensburg 2000 – wissenschaftliches Programm

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DS: Dünne Schichten

DS 23: Organische Schichten III

DS 23.5: Fachvortrag

Mittwoch, 29. März 2000, 16:30–16:45, H31

Direkter Nachweis der synergistischen Wechselwirkung zwischen atomarem Wasserstoff und Methyl-Radikalen beim Wachstum amorpher Kohlenwasserstoffschichten — •Thomas Schwarz-Selinger, Matthias Meier, Wolfgang Jacob und Achim von Keudell — Max–Planck–Institut für Plasmaphysik, Boltzmannstr. 2, D–85748 Garching b. München

Atomarer Wasserstoff und Methyl-Radikale gelten als die dominanten neutralen Wachstums- bzw. Erosionsspezies bei der plasma-gestützten Abscheidung von amorphen Kohlenwasserstoffschichten (a-C:H) aus Niederdruck-Gasentladungen. Um die Wechselwirkung dieser neutralen Radikale mit a-C:H-Oberflächen quantitativ untersuchen zu können, wurden Teilchenstrahlquellen für H und CH₃ entwickelt und absolut quantifiziert. Im vorliegenden Beitrag wird die Wechselwirkung dieser beiden Teilchenstrahlen mit einer a-C:H-Oberfläche untersucht. Das Schichtwachstum bzw. die Erosion wurde dabei in situ mit Ellipsometrie in Echtzeit verfolgt. Die experimentellen Ergebnisse stellen die ersten absoluten Daten für den Haftkoeffizienten von CH₃ Radikalen auf a-C:H Oberflächen dar. Wird eine a-C:H-Oberfläche gleichzeitig beiden Teilchensorten ausgesetzt, kommte es durch die synergistische Wechselwirkung von H und CH₃ zu einer Erhöhung des Haftkoeffizienten für CH₃ um etwa 2 Größenordnungen.