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Regensburg 2000 – scientific programme

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DS: Dünne Schichten

DS 23: Organische Schichten III

DS 23.5: Fachvortrag

Wednesday, March 29, 2000, 16:30–16:45, H31

Direkter Nachweis der synergistischen Wechselwirkung zwischen atomarem Wasserstoff und Methyl-Radikalen beim Wachstum amorpher Kohlenwasserstoffschichten — •Thomas Schwarz-Selinger, Matthias Meier, Wolfgang Jacob und Achim von Keudell — Max–Planck–Institut für Plasmaphysik, Boltzmannstr. 2, D–85748 Garching b. München

Atomarer Wasserstoff und Methyl-Radikale gelten als die dominanten neutralen Wachstums- bzw. Erosionsspezies bei der plasma-gestützten Abscheidung von amorphen Kohlenwasserstoffschichten (a-C:H) aus Niederdruck-Gasentladungen. Um die Wechselwirkung dieser neutralen Radikale mit a-C:H-Oberflächen quantitativ untersuchen zu können, wurden Teilchenstrahlquellen für H und CH3 entwickelt und absolut quantifiziert. Im vorliegenden Beitrag wird die Wechselwirkung dieser beiden Teilchenstrahlen mit einer a-C:H-Oberfläche untersucht. Das Schichtwachstum bzw. die Erosion wurde dabei in situ mit Ellipsometrie in Echtzeit verfolgt. Die experimentellen Ergebnisse stellen die ersten absoluten Daten für den Haftkoeffizienten von CH3 Radikalen auf a-C:H Oberflächen dar. Wird eine a-C:H-Oberfläche gleichzeitig beiden Teilchensorten ausgesetzt, kommte es durch die synergistische Wechselwirkung von H und CH3 zu einer Erhöhung des Haftkoeffizienten für CH3 um etwa 2 Größenordnungen.

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