DS 33: Schichtcharakterisierung II
Donnerstag, 30. März 2000, 09:30–11:00, H32
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09:30 |
DS 33.1 |
Fachvortrag:
Spektromikroskopie mit PEEM: Grenzen von Nachweisempfindlichkeit, lateraler und spektroskopischer Auflösung — •Ch. Ziethen, O. Schmidt, A. Oelsner, M. Klais, S. Nepijko, G. Schönhense, M. Merkel, K. Grzelakowski und M. Escher
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09:45 |
DS 33.2 |
Fachvortrag:
Messung thermischer Tiefenprofile an PVD/CVD Beschichtungen — •I. Delgadillo-Holtfort, U. Hinzpeter, B.K. Bein und J. Pelzl
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10:00 |
DS 33.3 |
Fachvortrag:
Bestimmung von Konzentrationsprofilen in GaSb/AlxGa1−xSb- Heterostrukturen — •Burkhard Jahnen, Martina Luysberg, Knut Urban, Christoph Ungermanns und Roland Schmidt
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10:15 |
DS 33.4 |
Fachvortrag:
Improved Sputter Depth Profiling of WSix Layers on Si — •Andriy Goryachko, Dietmar Krueger, and Rainer Kurps
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10:30 |
DS 33.5 |
Fachvortrag:
Einfluß von Feldverteilungen an Festkörperoberflächen auf chemische und magnetische Kontraste in der Photoemissionselektronenmikroskopie — •M. Klais, O. Schmidt, A. Oelsner, S. Nepijko, G. Fecher, G. Schönhense, N. Cramer, U. Muschiol und C. M. Schneider
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10:45 |
DS 33.6 |
Fachvortrag:
Volatile surfactant assisted chemical vapor deposition of the complex oxide films — •Andrey Kaul, Alexander Molodyk, Oleg Gorbenko, Igor Korsakov, Mikhail Novozhilov, Sergey Samoylenkov, Georg Wahl, and Ulrich Krause
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