Regensburg 2000 – wissenschaftliches Programm

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DS: Dünne Schichten

DS 33: Schichtcharakterisierung II

DS 33.1: Fachvortrag

Donnerstag, 30. März 2000, 09:30–09:45, H32

Spektromikroskopie mit PEEM: Grenzen von Nachweisempfindlichkeit, lateraler und spektroskopischer Auflösung — •Ch. Ziethen¹, O. Schmidt¹, A. Oelsner¹, M. Klais¹, S. Nepijko¹, G. Schönhense¹, M. Merkel², K. Grzelakowski² und M. Escher² — ¹Johannes Gutenberg-Universität Mainz — ²FOCUS GmbH, 65510 Hünstetten-Görsroth

Die Spektromikroskopie unter Einsatz eines Emissions-Elektronenmikroskopes läßt unter Verwendung energetisch durchstimmbarer Synchrotronstrahlung über die ortsaufgelöste Röntgenabsorptionsspektroskopie eine detaillierte chemische Analyse von Festkörperoberflächen bei unterschiedlichsten Fragestellungen zu [1]. Die Ergebnisse geben insbesondere bei Mikrostrukturen und dünnen Filmen quantitativen Aufschluß über die Stöchiometrie und deren lokale Variation.

Allen Untersuchungen gemeinsam sind instrumentell / methodisch bedingte Grenzen, die anhand verschiedener Messungen vorgestellt werden. Darüberhinaus werden die Möglichkeiten und der Stand aktueller Entwicklungen aufgezeigt, die Leistungsfähigkeit und den Einsatzbereich der Methode auch im Hinblick auf eine chemisch / strukturell differenzierende Mikroanalytik im Laboreinsatz zu erweitern. (BMBF 05SL8UM10)

[1] Ch. Ziethen et al., J. Elec. Spec. Rel. Phen. 88-91 (1998) 983, Ch. Ziethen, Dissertation, Shaker Verlag, Aachen (1999).