Regensburg 2000 – wissenschaftliches Programm

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DS: Dünne Schichten

DS 38: Postersitzung

DS 38.10: Poster

Dienstag, 28. März 2000, 09:30–17:30, Poster B

Einfluß der Depositionsparameter auf die Textur reaktiv gesputterter ZnO-Schichten — •Oliver Kappertz, Walter Njoroge und Matthias Wuttig — I.Physikalisches Institut, RWTH-Aachen, D-52056 Aachen

Die Eigenschaften dünner Schichten hängen nicht

nur vom eingesetzten Beschichtungsprozesses, sondern auch

wesentlich von den Prozessparametern ab.

Hier wurde der Einfluß von Target-Material

(Zn und ZnO:Al), Gesamtdruck,Sputterstrom, Target-Substrat-Abstand,

Sauerstofffluß und Substrattemperatur auf die Textur reaktiv

gesputterter (DC-Magnetron)ZnO-Schichten untersucht.

Die Charakterisierung der Schichten erfolgte mittels

Röntgendiffraktometrie (Textur) und

Röntgenreflektometrie (Schichtdicke).

Sowohl mit Zn als auch mit ZnO:Al als Targetmaterial konnten Schichten

mit ausgezeichneter (0001)-Textur hergestellt werden. Dabei traten in den mit

dem ZnO:Al-Target präparierten Schichten je nach Prozessparametern eine

Verschiebung des (0002)-Reflexes auf. Dies wurde als hohe kompressive

Spannung gedeutet; bei mit dem Zn-Target hergestellten Proben wurde

dies nicht in diesem Umfang beobachtet.