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DS: Dünne Schichten

DS 38: Postersitzung

DS 38.23: Poster

Dienstag, 28. März 2000, 09:30–17:30, Poster B

Deposition von metalldotierten a-C:H-Schichten mittels reaktivem Magnetronsputtern — •Daniel Rohde¹, Holger Kersten¹, Rainer Hippler¹, Wolfgang Jacob² und Peter Pecher² — ¹Universität Greifswald. Institut für Physik. Domstraße 10a. 17489 Greifswald — ²MPI IPP Garching . Boltzmannstaße 2. 85748 Garching

Bei der Deposition von titan- und molybdändotierten Kohlenstoffschichten mittels Magnetronsputtern in einer CH4- und C2H2- Atmosphäre wurden die inneren Plasmaparameter bestimmt. Dazu wurden Sondenmessungen und die U-I- Charakteristik der Entladung ausgewertet. Außerdem wurde die Zusammensetzung der Spezies (Arbeitsgas, gesputtertes Material, Produkte) massenspektrometrisch untersucht. Da die thermische Bilanz der Substratoberfläche die Eigenschaften der deponierten Filme wesentlich beeinflußt, wurde der integrale Energieeinstrom aus dem zeitlichen Verlauf der Substrattemperatur ermittelt. Die einzelnen Beträge zum Energieeintrag (kinetische Energie der schnellen Neutralen und Ladungsträger, etc.) wurden aus Modellrechnungen abgeschätzt. Parallel zu diesen Messungen wurden die gesputterten Schichten mit XPS, FTIR und XRD analysiert.