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DS: Dünne Schichten
DS 38: Postersitzung
DS 38.5: Poster
Tuesday, March 28, 2000, 09:30–17:30, Poster B
IBAD-YSZ-Pufferschichten auf großen Flächen und Bändern — •S. Sievers, J. Dzick, J. Hoffmann und H.C. Freyhardt — Universität Göttingen, Institut für Materialphysik, Windausweg 2, 37073 Göttingen
Biaxial texturierte IBAD-YSZ-Schichten stellen einen geeigneten Puffer
für die HTSL-Beschichtung technischer Substrate (Metallbänder, PSZ,
... ) dar. Die bei uns zur Pufferdeposition eingesetzten Sputteranlagen
haben Beschichtungsfenster von 6× 13 cm2 bzw. 17× 17
cm2, in denen in-plane Texturen mit Halbwertsbreiten ≤ 25∘
erreicht werden. Für die Beschichtung größerer Flächen und Bänder
muss das Substrat bewegt werden. Dies führt für einen gegebenen
Oberflächenbereich zu einer zeitlichen Variation der
Depositionsparameter beim Durchlaufen der unterschiedlichen Bereiche des
Beschichtungsfensters. Die Bedeutung der Depositionsbedingungen bei der
Bildung der Keimschicht und in der anschließenden Phase des
Filmwachstums auf die erreichbare Textur wird dargestellt.
Zusätzlich führt bei bewegten Substraten die schlechtere thermische
Ankopplung an das Trägersystem durch den Energieeintrag des
texturierenden Ionenstrahls und des aufwachsenden Materials zu einer
Erwärmung im Verlauf der Beschichtung. Das Ausmaß der Erwärmung und
ihr Einfluss auf die Ausbildung einer Textur im Verlauf des
Schichtwachstums wurde untersucht.
Für eine Homogenisierung der Filmeigenschaften erfolgt die
Substratbewegung idealerweise periodisch unter dem Beschichtungsfenster.
Der Einfluß periodischer Variationen der Beschichtungsparameter auf die
Texturausbildung wurde analysiert.
Diese Arbeit wurde teilweise unterstützt von Alcatel und von Siemens.