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DS: Dünne Schichten
DS 5: Laserverfahren II
Montag, 27. März 2000, 14:45–15:15, H31
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14:45 | DS 5.1 | Fachvortrag: Schichtabscheidung mit Excimerlaserstrahlung für optische Anwendungen — •J. Petereit, J. Gottmann, E.W. Kreutz und R. Poprawe |
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15:00 | DS 5.2 | Fachvortrag: Quantifizierung der Wiederabsputterrate (Sputter-Yield) bei der Laserdeposition im Ultrahochvakuum und in Ar-Gasatmosphäre — •H.-U. Krebs und K. Sturm |