Regensburg 2000 – wissenschaftliches Programm
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DS: Dünne Schichten
DS 8: Magnetische Schichten II
DS 8.1: Fachvortrag
Montag, 27. März 2000, 17:15–17:30, H31
Vollständige antiferromagnetische Kopplung in ultradünnen Co/Cu/Co-Trilagen auf Cu(111) erzeugt durch Laserablation — •Jochen Barthel1, Min Zheng2, Jian Shen3, Chakka Mohan4, Philippe Ohresser5 und Jürgen Kirschner1 — 1Max-Planck-Institut für Mikrostrukturphysik, Weinberg 2, 06120 Halle — 2Center for Materials and Analysis, 111 Brace Laboratory, Lincoln, NE 68588-0113, USA — 3Oak Ridge National Laboratory, PO Box 2008, Oak Ridge, TN 37831-6057 , USA — 4Louisiana State University, Baton Rouge, LA 70803-4001, USA — 5European Synchrotron Radiation Facility, BP 220, F-38043 Grenoble Cedex, France
Der Riesenmagnetwiderstandseffekt in Co/Cu-Multischichten hängt von der Dicke der unmagnetischen Zwischenschicht ab, bei der antiferromagnetische(AF) Kopplung zwischen benachbarten Co-Lagen eintritt. Das erste Maximum der AF-Kopplung liegt bei 4 Monolagen(ML) Cu. Thermisch gewachsenes Co auf Cu(111) tendiert zum 3D-Wachstum. Ab 2 ML bilden sich fcc-hcp-Stapelfehler im Co aus. Die nachfolgende Cu-Abscheidung vermag die rauhe Co-Morphologie nicht mehr zu glätten, so dass in Trilagen aus Co(4ML)/Cu(4ML)/Co(4ML) die Co-Lagen bereichsweise untereinander ferromagnetisch koppeln. “Surfactant“-frei löst man das Problem durch Laserablation (PLD). Die extrem hohe transiente Aufdampfrate von 105 ML pro min erzwingt über eine erhöhte Keimdichte stapelfehlerfreies Lagenwachstum. Mittels PLD hergestellte Trilagen Co(4ML)/Cu(4ML)/Co(4ML) auf Cu(111) koppeln vollständig antiferromagnetisch. Jede Co-Lage allein besitzt dabei eine in der Schichtebene liegende leichte Magnetisierungsrichtung.