Regensburg 2000 – scientific programme
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HL: Halbleiterphysik
HL 11: SiC
HL 11.4: Talk
Monday, March 27, 2000, 17:15–17:30, H14
Reaktivierung von Wasserstoff-passivierten Al Akzeptoren in SiC: Experimente und Simulation — •Christian Hülsen, Norbert Achtziger, Jan Herold und Wolfgang Witthuhn — Inst.f.Festkörperphysik, Univ. Jena, Max-Wien-Platz 1, 07743 Jena
Aluminium dotierte, p-Typ 4H-SiC epi-Schichten wurden mittels
Niederenergie-Implantation von
Wasserstoff passiviert/1/. Die Stabilität dieser Passivierung wurde in
isothermen
Ausheilschritten untersucht, wobei mittels einer in Sperrrichtung
betriebenen
Schottkydiode ein elektrisches Feld erzeugt wurde. Bei Temperaturen ab
470 K zeigt sich dabei
eine Zunahme der elektrisch aktiven Akzeptorkonzentration im Bereich des
angelegten E-Feldes
und eine Abnahme in grösserer Tiefe. Diese Beobachtung
en wurden bereits qualitativ erklärt als Dissoziation von Al-H
Komplexen und anschliessender
Ionendrift von offenbar positiv geladenem Wasserstoff /2/. Neue
Messungen zeigen eine deutliche
Abhängigkeit des Effekts vom Wasserstoffisotop (1H, 2H) und von
der Akzeptorkonzentration. Die Ergebnisse werden mit
Simulationsrechnungen verglichen, bei
denen die Einzelprozesse Dissoziation, Diffusion, Ionendrift und
Wiedereinfang an freien
Akzeptoren berücksichtigt werden.
/1/ N.Achtziger, J.Grillenberger, W.Witthuhn, M.K.Linnarsson,
M.Janson, and B.G.Svensson, Appl.Phys. Lett. 73(7), 945 (1998)
/2/ N.Achtziger, C.Hülsen, W.Witthuhn, M. K. Linnarsson, M. Janson,
B.G. Svensson, phys. stat.sol.(b) 210, 395 (1998)