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HL: Halbleiterphysik

HL 36: Quantenpunkte (Herstellung und Charakterisierung)

HL 36.2: Vortrag

Donnerstag, 30. März 2000, 16:15–16:30, H13

Imprint Lithographie zur Herstellung von metallischen Nanostrukturen und Quantenpunktkontakten — •Ingo Martini, Dominik Eisert, Silke Kuhn, Martin Kamp und Alfred Forchel — Technische Physik, Am Hubland, 97074 Würzburg

Imprint Lithographie ist ein attraktives paralleles Verfahren zur Herstellung von Strukturen mit Dimensionen im 10 nm Bereich.

Beim Imprint wird ein strukturierter Stempel unter Druck in einen Polymerfilm oberhalb der Glastemperatur abgeformt. Die Auflösung des Verfahrens ist im wesentlichen durch die Herstellung des Stempels beschränkt.

Ein kritischer Schritt bei der Imprint Lithographie ist die Oberflächen- passivierung des Stempels, um ein Ankleben an die Probe zu vermeiden. Es wurden der Einfluss verschiedener Prozessparameter wie Druck, Temperatur und Polymerviskosität auf die Qualität der gestempelten Strukturen untersucht.

Durch Imprint in ein- und mehrlagige Polymerschichten und anschliessenden Lift off Prozess konnten Metalldrähte mit Breiten unter 25 nm hergestellt werden. In einer ersten Anwendung in Richtung Bauelemente wurde die Herstellung von split-gate Quantenpunkten untersucht. Auf strukturierte Mesen wurden Gateelektroden mit Abständen um 150 nm definiert. Die mit Imprint Lithographie hergestellten Quantenpunktkontakte zeigen quantisierte Leitfähigkeit bei 2 K und sind in ihren Eigenschaften vergleichbar mit durch Elektronenstrahllithographie hergestellten Bauelementen.