Regensburg 2000 – scientific programme

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HL: Halbleiterphysik

HL 8: Photonik

HL 8.2: Talk

Monday, March 27, 2000, 16:45–17:00, H17

Zweidimensionale Photonische Kristalle hergestellt mit Additiver Nanolithographie wirken als Bandfilter — •Hans W.P. Koops¹, O.E. Hoinkis¹, M.E.W. Honsberg¹, R. Schmidt¹, R. Blum², G. Böttger², M. Eich², A. Kuligk² und C. Liguda² — ¹T-Nova Deutsche Telekom Innovationsgesellschaft mbH, Technologiezentrum, Am Kavalleriesand 3, 64295 Darmstadt — ²TU Hamburg-Harburg, Eissendorfer Straße 38, AB 4-09, 21071 Hamburg

Dreidimensionale Additive Nanolithographie mit Elektronenstrahl-induzierter Deposition ist eine neue Methode zur Herstellung Photonischer Kristalle aus Feldern von Stäben mit hoher Dielektrizitätskonstante umgeben von Luft, die einzigartige Flexibilität hinsichtlich der Materialauswahl und seiner Positionierung und Formgebung besitzt. Zur optischen Charakterisierung wurden Kristalle in Lücken von PMMA-Wellenleitern deponiert. Transmissionsmessungen zwischen 1250 und 1650 nm Wellenlänge zeigen eine Abschwächung auf 20 % durch die Kristalle und eine Verschiebung der Transmissionsminima in Abhängigkeit von ihrer Gitterkonstante.