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M: Metallphysik

M 12: Diffusion

M 12.2: Vortrag

Donnerstag, 30. März 2000, 10:30–10:45, H6

Diffusion von implantierten ⁵⁹Fe-Radiotracer-Atomen in dem metallischen Massivglas Zr₆₅Cu_17,5Ni₁₀Al_7,5 — •Petra Schaaff¹, S. Matics², K. Freitag³ und W. Frank^1,2 — ¹MPI f. Metallforschung, Stuttgart — ²Inst. f. Theoret. u. Angew. Physik der Univ. Stuttgart — ³Inst. f. Strahlen- und Kernphysik der Univ. Bonn

Mit Hilfe des Radiotracer-Verfahrens wurde die ⁵⁹Fe-Diffusion in dem metallischen Massivglas Zr₆₅Cu_17,5Ni₁₀Al_7,5 zwischen 400^oC und 310^oC gemessen. Hierzu wurden die ⁵⁹Fe-Radioisotope mit 140 keV durch eine an der Oberfläche vorhandene Oxidschicht in eine Tiefe von ca. 70 nm implantiert. Die Schichtenteilung erfolgte mittels Ionenstrahlzerstäubung. Die Eindringprofile werden im Hinblick auf mögliche Oberflächeneffekten und Einflüsse der Implantation diskutiert. Die Temperaturabhängigkeit des Diffusionskoeffizienten wird mit den Ergebinssen über die Ni-Diffusion in der gleichen Legierung von Knorr et al. [1] verglichen. Im Rahmen der Messungenauigkeit stimmen die Diffusionskoeffizienten für die ⁵⁹Fe-Fremddiffusion und die ⁶³Ni-Selbsdiffusion überein.

[1] K. Knorr, H. Mehrer,M.-P. Macht, Verhandl. DPG (VI) 34,856 (1999)