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O: Oberflächenphysik
O 11: Postersession (Eröffnung)
O 11.123: Poster
Monday, March 27, 2000, 19:00–22:00, Bereich C
Glättung von Oberflächen mittels Clustersputtern — •Peter Gerhardt, Davor Stolcic, Eva Oettinger und Gerd Ganteför — Fachbereich Physik, Universität Konstanz, 78457 Konstanz
Das Sputtern mit Atomionen ist eine der Standardmethoden der Oberflächenbearbeitung. Bei Verwendung von Clusterionen können bei geeigneten Parametern höhere Abtragsraten und eine zusätzliche Glättung im Vergleich zum Atomionensputtern erreicht werden. Nach dem Aufbau einer Apparatur mit intensiver Clusterionenquelle wurden systematische Studien zum Glättungseffekt durchgeführt. Präsentiert wird die Entwicklung der Rauhigkeit von Siliziumwafern, die unter Variation verschiedener Parameter (CO2)n+-Clusterionenstrahlen (n=100-50000) ausgesetzt waren. Insbesondere werden die Abhängigkeitien von Clusterionendosis und Clusterionengröße gezeigt.