Regensburg 2000 – wissenschaftliches Programm
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O: Oberflächenphysik
O 11: Postersession (Eröffnung)
O 11.127: Poster
Montag, 27. März 2000, 19:00–22:00, Bereich C
Untersuchungen der Morphologie von Deponaten aus Antimonclustern auf HOPG — •Jan Hagen1, Fredreric Carlier2, Marta de Frutos2, Jerome Le Roux2, Philippe Cahuzac2, Catherine Brechignac2 und Ludger Wöste1 — 1Institut für Experimentalphysik, Freie Universität Berlin, Arnimallee 14, 14195 Berlin — 2Laboratoire Aime Cotton, CNRS II, Bat. 505, Campus d‘ Orsay, 91405 Orsay cedex, France
Die gezielte Herstellung von Nanostrukturen verspricht vielfältige
Anwendungsmöglichkeiten in der Katalyse, der Optik und der Computerindustrie.
Wir berichten über Depositionsexperimente am Laboratoire Aime Cotton in Orsay (Frankreich). Dabei deponieren wir Antimoncluster aus einer Gaskondensationsclusterquelle unter UHV-Bedingungen auf HOPG-Substraten bei Raumtemperatur. Die Proben werden anschliessend mittels AFM bzw. STEM charakterisiert.
Frühere Arbeiten zeigen eine starke Abhängigkeit der entstehenden Strukturen von der Clustergrösse. Insbesondere tritt mit zunehmender Teilchengrösse ein Übergang von kompaktem zu fraktalem Wachstum auf, wobei letzteres durch das Modell der diffusion limited aggregation (DLA) beschrieben werden kann. Die Oberflächendichte der durch Clusterdiffusion und -aggregation entstehenden Objekte nimmt mit der Clustergrösse zu. Unter den gewählten Depositionsbedingungen ist die Kollision von Clustern nicht der dominierende Nukleationsprozess, vielmehr bilden Oberflächendefekte des Graphits wie Stufen oder Versetzungen Nukleationskeime für diffundierende Cluster.