Regensburg 2000 – wissenschaftliches Programm

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O: Oberflächenphysik

O 11: Postersession (Eröffnung)

O 11.136: Poster

Montag, 27. März 2000, 19:00–22:00, Bereich C

Theoretische Untersuchung der Beeinflußung der Meßgrößen des Rasterkraftmikroskops durch die Oberflächengeometrie — •Thomas Stifter, Sabine Hild und Othmar Marti — Abteilung Experimentelle Physik, Universität Ulm. 89069 Ulm

Mit Kraft-Distanz-Kurven oder dem Pulsed-Force-Mode ist es möglich neben der Topographie

weitere Eigenschaften der Oberfläche (Adhäsion, Steifigkeit, Reibung) simultan zu erfassen.

Aber es ist auch möglich Aussagen über die Wechselwirkung zwischen Spitze und Probe im allgemeinen zu erhalten.

Dazu können zum Beispiel Kraftwerte vor dem Anschnapp-Peak des Balkens auf die Probe aufgenommen werden.

Bei Untersuchungen in elektrochemischer Umgebung kann man aus diesen Kraftwerten Aussagen über die elektrochemische Doppelschicht gewinnen.

Werden mit dem RKM Nanostrukturen untersucht beeinflußt die Topographie die damit gemessen Größen. Deshalb wäre es hilfreich,

entscheiden zu könnenn, wie und in welcher Stärke die Topographie die zugänglichen Meßgrößen bestimmt.

In diesem Beitrag wird mit einem Modell der Einfluß der Topographie auf die Kräfte zwischen der Spitze eines RKM und der Oberfläche simuliert.

Die Ergebnisse der Simulationen zeigen einen Einfluß der Modellstrukturen. Der Vergleich mit Messungen zeigt eine gute übereinstimmung mit den Berechnungen.