Bereiche | Tage | Auswahl | Suche | Downloads | Hilfe

O: Oberflächenphysik

O 11: Postersession (Eröffnung)

O 11.140: Poster

Montag, 27. März 2000, 19:00–22:00, Bereich C

Labor–EUV–PEEM zur Oberflächenuntersuchung — •Oliver Wehmeyer¹, Ulf Kleineberg¹, Ulrich Heinzmann¹, Guido Schriever², Klaus Bergmann², Rainer Lebert², Michael Merkel³ und Gerd Schönhense³ — ¹Universität Bielefeld, Molekül– und Oberflächenphysik, Universitätsstraße 25, D-33615 Bielefeld — ²ILT der FhG, Steinbachstraße 15, D-52074 Aachen — ³Focus GmbH, Am Birkhecker Berg 20, D-65510 Hünstetten

Wir stellen ein Labor–EUV–Photoemissions–Elektronenmikroskop als ein neues Werkzeug für die topographische und elementspezifische Oberflächenanalyse vor. Der experimentelle Aufbau besteht aus einer laserinduzierten Lithiumplasmalichtquelle als Labor–EUV–Quelle, einem multilayerbeschichteten ellipsoidalen Kondensorspiegel und einem für diesen Aufbau angepassten PEEM (basierend auf einem IS–PEEM, Fa. Focus).

Das Gesamtsystem wurde hinsichtlich seiner Leistungsdaten wie fokussierter Pulsintensität auf der Probe, lateraler Auflösung im PEEM sowie bildunterdrückender Raumladungseffekte charakterisiert. An einer mikrostrukturierten Probe (3 µm Pd–Streifen auf Si) wurde eine laterale Auflösung von ca. 600 nm gemessen. An dieser Probe wurden auch erste Experimente im Time of Flight Mikrospektroskopiemodus unter Ausnutzung der Zeitstruktur der LPP–Quelle durchgeführt. Das Potential dieses Verfahren für die Mikrospektroskopie von elektronischer Innerschalen–Anregung wird diskutiert.