Regensburg 2000 – wissenschaftliches Programm
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O: Oberflächenphysik
O 11: Postersession (Eröffnung)
O 11.145: Poster
Montag, 27. März 2000, 19:00–22:00, Bereich C
Nanostrukturierung von Metallabsorberfilmen auf Mo/Si EUV Multilayern mittels UHV–STM–Lithographie in Self–Assembled Monolayer — •M. Sundermann1, A. Brechling1, K. Rott1, D. Meiners1, U. Kleineberg1, M. Grunze2 und U. Heinzmann1 — 1Fakulät für Physik, Universität Bielefeld, Universitätsstr. 25, D–33615 Bielefeld — 2Angewandte Physikalische Chemie, Universität Heidelberg, D–69120 Heidelberg
Wir berichten über die Erzeugung künstlicher Nanostrukturen in selbstorganisierenden Monolagen (SAMs) und deren Übertragung in die unterliegenden Metallfilme mittels naßchemischen Ätzens. Diese strukturierten Metallfilme agieren als effektiver EUV Absorber auf den darunterliegenden EUV Multilayerspiegeln und stellen so ein Testsystem für die Erzeugung von EUV–Reflexionsmasken dar.
Es werden unterschiedliche Systeme wie Hexadecanethiol auf Gold bzw. OTMS auf Chrom untersucht. Die SAM Filme werden mittels UHV–STM Schreiben strukturiert. Diese strukturierten SAM Filme stellen einen effektiven ultra dünnen Resist für den Strukturübertrag in die unterliegenden Absorberfilme da. Die in die Metallfilme übertragenen Strukturen werden mittels AFM und SEM untersucht.