Regensburg 2000 – wissenschaftliches Programm
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O: Oberflächenphysik
O 11: Postersession (Eröffnung)
O 11.152: Poster
Montag, 27. März 2000, 19:00–22:00, Bereich C
Parallele Nanolithographie in amorphen Kohlenstoffschichten mit > leitfähigen “Stempeln“ — •Thomas Mühl1, Claus M. Schneider1 und Günter Reiss2 — 1IFW Dresden, Postfach 270016, 01171 Dresden — 2Universität Bielefeld, Fakultät Physik, > Universitätsstraße 25, > D-33615 Bielefeld
> > > Eine direkte Methode zur Strukturierung von dünnen Schichten aus > amorphem Kohlenstoff ist die lokale, elektroneninduzierte Oxidation in > Rastersondenmikroskopen. Sie eignet sich zur Erzeugung sehr > kleiner Strukturen mit Größen im Bereich unter 30 nm, jedoch > begrenzt der serielle Charakter des Schreibprozesses die > Strukturierungsgeschwindigkeit. > > Wir stellen in dieser Arbeit eine > Erweiterung > der Methode der lokalen Oxidation von Kohlenstoff zu einer > parallelen > Lithographiemethode unter Verwendung vorstrukturierter, leitfähiger > “Stempel“ vor. Mit diesem Verfahren können komplexe, > dreidimensionale > Strukturen in einem Prozeßschritt in den Kohlenstoff übertragen > werden. > >