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O: Oberflächenphysik

O 11: Postersession (Eröffnung)

O 11.20: Poster

Montag, 27. März 2000, 19:00–22:00, Bereich C

Epitaktisches Wachstum von Alkalihalogeniden auf vicinalen Metalloberflächen — •A. Riemann, A. Helms, S. Fölsch und K.H. Rieder — Institut für Experimentalphysik, FU Berlin, Arnimallee 14, 14195 Berlin

Das epitaktische Wachstum ultradünner Alkalihalogenid-Filme (KCl und RbI) auf Cu(211) wurde mit Hilfe der Hochauflösenden Elektronenbeugung (SPALEED) untersucht. Bei dem verwendeten Cu-Substrat

handelt es sich um eine vicinale Oberfläche mit (111)-Terrassen, die durch (100)-Stufen in [011]-Richtung separiert werden. KCl wächst bei Bedeckungen um 1.5 Monolagen und Temperaturen um 300 K als (100)-terminierte epitaktische Lage auf, die eine (1x5)-Überstruktur aufweist. Für höhere Temperaturen tritt zusätzlich eine adsorbat-induzierte Facettierung des Cu-Substrats in (311)- und vicinale (111)-Gegenfacetten auf. Die (311)-Facetten sind hierbei mit einer epitaktischen KCl-Lage überwachsen, die wiederum (100)-terminiert ist. Bei einer KCl-Bedeckung von 0.6 Monolagen findet man hingegen die (1x5)-Überstruktur nicht, allerdings tritt in gleicher Weise eine temperaturabhängige Ausbildung von (311)- sowie vicinalen (111)-Gegenfacetten auf. Bei Deposition von RbI auf Cu(211) hingegen kann keine Facettierung festgestellt werden. Es wächst über den gesamten untersuchten Temperaturbereich (120 K bis 600 K) als (100)-orientierter Film mit einer (1x2)-Überstruktur auf.