Regensburg 2000 – wissenschaftliches Programm

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O: Oberflächenphysik

O 20: Elektronische Struktur (II)

O 20.8: Vortrag

Dienstag, 28. März 2000, 18:00–18:15, H37

Einflußdes Oberflächen-Ladungsdichteprofils auf die Energie von kollektiven Anregungen — •Sudipto Roy Barman¹, Catherine Stampfl², Patricio Häberle³ und Karsten Horn² — ¹IUC-DAEF, Indore, Indien, und Fritz-Haber-Institut, Berlin — ²Fritz-Haber-Institut der Max-Planck-Gesellschaft, Berlin — ³Universidad Tecnica Federico Santa Maria, Valparaiso, Chile

Theoretische Behandlungen des Respons einer Metalloberfläche auf ein einfallendes elektromagnetisches Feld erklären die induzierten Ladungsdichteschwankungen im Sinne einer (neben dem Volumen- und dem Oberflächenplasmon) zusätzlichen Mode mit multipolarem Charakter. Diese kann einerseits in der Elektronenverlustspektroskopie beobachtet werden , und ist andererseits für die Überhöhung des Photostroms im Bereich der Plasmonenenergie. Die Energie dieser Plasmon-Mode sollte eine Abhängigkeit von der Form der Ladungsdichteverteilung an der Oberfläche zeigen. Wir haben daher das Multipol-Plasmon an reinen Al-Oberflächen sowie den Oberflächenlegierungen Al(111)-(2 x 2):Na und Al(100)-(2 x 2):Na mittels Photoyield-Spektroskopie untersucht. Diese erfahren, wie wir anhand von selbstkonsistente n DFT-Rechnungen ermitteln, durch die Substitution von Al-Atomen durch Na eine erhebliche Variation des Ladungsdichteprofils im Vergleich zu reinen Oberfläche. Unsere Ergebnisse zeigen jedoch, daßdas Al-Multipol-Plasmon in der Oberflächenlegierungsphase keinerlei Energieverschiebung erfährt. Mögliche Erklärungen für diese überraschende Beobachtung werden diskutiert.