Regensburg 2000 – scientific programme

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O: Oberflächenphysik

O 21: Oberflächenreaktionen (II)

O 21.6: Talk

Tuesday, March 28, 2000, 17:30–17:45, H44

Chemische Reaktionen bei der Bildung von Kohlenstoff-Mischsystemen — •Ch. Linsmeier, J. Luthin und P. Goldstrass — Max-Planck-Institut für Plasmaphysik, EURATOM Association, Boltzmannstrasse 2, D-85748 Garching b. München, Germany

Für den Betrieb von Plasma-Fusionsexperimenten kommen neben dem zur Zeit am häufigsten verwendeten Graphit eine Reihe weiterer Materialien für die erste Wand in Frage . Durch Abscheiden von Kohlenstofffilmen auf diesen Materialien kann es zur Bildung von chemischen Verbindungen kommen, die dann veränderte Materialeigenschaften aufweisen. Aus diesem Grund erfolgten systematische Untersuchungen des Carbidisierungsverhaltens verschiedener potenzieller erste Wand-Materialien. Dazu wurden dünne Kohlenstofffilme durch Elektronenstrahlverdampfen von Graphit auf verschiedene Substrate (Au, W, Be, Si, Ti) abgeschieden und mit Röntgen-Photoelektronenspektroskopie (XPS) in hoher Energieauflösung analysiert. Bereits nach dem Abscheiden der Kohlenstofffilme beobachtet man bei Be, Ti und W die Bildung von Carbiden. Sukzessives Heizen der Präparate und die Analyse der jeweiligen chemischen Zusammensetzung liefern Informationen über die weitere Wechselwirkung an der Grenzfläche zwischen Kohlenstoff und Substrat. Damit können die Einsatztemperaturen für die thermisch induzierte Carbidisierung bestimmt und grundsätzliche Aussagen über das Diffusionsverhalten des Kohlenstoffs in den verschiedenen Materialien getroffen werden.